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產(chǎn)品資料

1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene

如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱: 1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene
產(chǎn)品型號(hào): 160542-02-9
產(chǎn)品展商: HZbscience
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔

簡單介紹

1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene價(jià)格,說明書,規(guī)格,純度。 1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene, ≥95% 1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene 別名: Cas號(hào): 160542-02-9 物化性質(zhì): 分子式: C9H5F3O 熔點(diǎn): 分子量: 186.13 儲(chǔ)存條件: 室溫


1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene  的詳細(xì)介紹

1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene, ≥95%
 1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene
別名:  
Cas號(hào): 160542-02-9 物化性質(zhì):  
分子式: C9H5F3O 熔點(diǎn):  
分子量: 186.13 

儲(chǔ)存條件: 室溫 

1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene光刻膠高純試劑 :

光刻工藝是一種表面加工技術(shù),在半導(dǎo)體電子器件和集成電路制造中占有重要地位。為在表面實(shí)現(xiàn)選擇性腐蝕,采用一類具有抗蝕作用的感光樹脂材料作為抗蝕涂層,稱為抗蝕劑,國內(nèi)通稱光刻膠。按照溶解度的不同而將光刻膠分為“正性”光刻膠和“負(fù)性”光刻膠,按所用曝光光源和輻射光源的不同,又可將其分為紫外、遠(yuǎn)紫外、電子束、 X 射線等光刻膠。

光刻膠是微細(xì)圖形加工的一種關(guān)鍵試劑,要求水分低、金屬雜質(zhì)含量低(≤ 10 -6 )

1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene磨拋光高純試劑 :

是指用于硅單晶片表面的研磨和拋光的高純度試劑。它又分磨粉(三氧化二鋁)和磨液(水和油劑),能研磨表面達(dá)到微米級(jí)加工精度。這類試劑要求顆粒粒度?。{米),純度高,金屬雜質(zhì)一般要求 2.0 × 10 -4 — 5 × 10 -5 ﹪

1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene液晶高純試劑 :

液晶是一類電子化學(xué)材料,是指在一定溫度范圍內(nèi)呈現(xiàn)介于固相和液相之間的中間相的有機(jī)物。它既有液態(tài)的流動(dòng)性也有晶態(tài)的各向異性,有時(shí)人稱他為第四態(tài)。

液晶種類繁多,用途*廣,前景*大的要屬 TN( 低檔 ) 、 STN (中**)、 TFT (**)型。 TN 、 STN 及TFT 三種型號(hào)所組成的單體液晶,主要包括芳香酯類、聯(lián)苯類、苯基環(huán)已烷類、鐵電類以及含氟液晶品等五種,它們是當(dāng)今及今后使用及發(fā)展的主要對(duì)象。1-ethynyl-4-(trifluoromethoxy)benzene這類高純試劑要求含量高(≥ 99 ﹪),水分含量低(≤ 10 -6 ),金屬雜質(zhì)含量少(≤ 10 -6 )。

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