1-[3-(**氧基硅基)丙基]脲, 94%
 1-[3-(Trimethoxysilyl)propyl]urea
別名: 脲丙基**氧基硅烷;3-脲丙基**氧基硅烷 
Cas號: 23843-64-3 物化性質(zhì):  
分子式: C7H18N2O4Si 熔點:  
分子量: 222.32 

儲存條件: 室溫,密封 

1-[3-(**氧基硅基)丙基]脲光刻膠高純試劑 ：

光刻工藝是一種表面加工技術(shù)，在半導(dǎo)體電子器件和集成電路制造中占有重要地位。為在表面實現(xiàn)選擇性腐蝕，采用一類具有抗蝕作用的感光樹脂材料作為抗蝕涂層，稱為抗蝕劑，國內(nèi)通稱光刻膠。按照溶解度的不同而將光刻膠分為“正性”光刻膠和“負(fù)性”光刻膠，按所用曝光光源和輻射光源的不同，又可將其分為紫外、遠(yuǎn)紫外、電子束、 X 射線等光刻膠。

光刻膠是微細(xì)圖形加工的一種關(guān)鍵試劑，要求水分低、金屬雜質(zhì)含量低（≤ 10 -6 ）

1-[3-(**氧基硅基)丙基]脲磨拋光高純試劑 ：

是指用于硅單晶片表面的研磨和拋光的高純度試劑。它又分磨粉（三氧化二鋁）和磨液（水和油劑），能研磨表面達(dá)到微米級加工精度。這類試劑要求顆粒粒度?。{米），純度高，金屬雜質(zhì)一般要求 2.0 × 10 -4 — 5 × 10 -5 ﹪

1-[3-(**氧基硅基)丙基]脲液晶高純試劑 ：

液晶是一類電子化學(xué)材料，是指在一定溫度范圍內(nèi)呈現(xiàn)介于固相和液相之間的中間相的有機物。它既有液態(tài)的流動性也有晶態(tài)的各向異性，有時人稱他為第四態(tài)。

液晶種類繁多，用途*廣，前景*大的要屬 TN( 低檔 ) 、 STN （中**）、 TFT （**）型。 TN 、 STN 及TFT 三種型號所組成的單體液晶，主要包括芳香酯類、聯(lián)苯類、苯基環(huán)已烷類、鐵電類以及含氟液晶品等五種，它們是當(dāng)今及今后使用及發(fā)展的主要對象。1-[3-(**氧基硅基)丙基]脲這類高純試劑要求含量高（≥ 99 ﹪），水分含量低（≤ 10 -6 ），金屬雜質(zhì)含量少（≤ 10 -6 ）。